鈰基拋光粉
純鈰拋光(guang)粉(fen)的關鍵技術(shu):通過將稀(xi)(xi)土(tu)進行(xing)合(he)成(cheng)、焙燒(shao)、破(po)碎、分(fen)級等工藝(yi)制成(cheng)粒度在0.5um-3.0um稀(xi)(xi)土(tu)拋光(guang)粉(fen)。該產品(pin)(pin)主(zhu)要用于光(guang)學(xue)玻(bo)(bo)璃(li)、集成(cheng)電路(lu)基板玻(bo)(bo)璃(li)、電鍍基板玻(bo)(bo)璃(li)、高精(jing)(jing)度光(guang)學(xue)鏡頭、照像機(ji)鏡頭、飛(fei)機(ji)鋼化玻(bo)(bo)璃(li)、各種(zhong)顯示器玻(bo)(bo)璃(li)等高精(jing)(jing)度的研磨(mo)拋光(guang)等10多個規格型號的產品(pin)(pin)。
TIME: 2022-03-28